半導體光刻膠行業深度研究：光刻膠國產替代正當時.pdf

上傳者：新**
時間：2022/08/27
熱度：1051
0人點贊
舉報

半導體光刻膠行業深度研究：光刻膠國產替代正當時。光刻是光電信息產業核心環節，光刻膠技術壁壘高光刻是利用光學、化學、物理方法，將設計好的電路圖轉移到晶圓等表面，是光電信息產業鏈中核心環節。光刻膠是對光敏感的混合液體，主要是由樹脂、光引發劑、溶劑、單體等組成，是光刻工藝中最核心耗材，其性能決定著光刻質量。目前，光刻膠生產在工藝技術、測試設備和下游認證均存較高壁壘。

面板和半導體產業快速發展，國內光刻膠市場前景廣闊

光刻膠主要應用于半導體、顯示面板和PCB等領域，其中顯示面板用占比27%，PCB和半導體用占比分別為25%和24%。近年，電子信息產業更新換代速度加快，疊加半導體、顯示面板產業東移，國內光刻膠需求快速提升，我國光刻膠市場規模從2015年的100億元增至2020年的176億元，年均復合增速達12%；據我們測算，2022-2025年市場規模將達222、250、281和316億元，成長空間廣闊。全球光刻膠市場規模從2010 年的56億美元增至2020年的87億美元，年均復合增速達5%；據我們測算，2022-2025年將達98、103、109和114億美元，穩步提升。據不完全統計，目前晶瑞電材等國內實現光刻膠量產的上市公司，2021年光刻膠相關業務營收合計達27.4億元，約占國內市場規模的14%，全球市場規模的5%，國內市場和全球市場均存在廣大的國產替代空間。

全球光刻膠供給高度集中，國內高端領域逐步突破

光刻膠屬于技術和資本密集型行業，全球供應市場高度集中，日本JSR等五家龍頭企業占據全球光刻膠市場87%的份額，同時海外龍頭也已實現 EUV等高端制程量產。目前，我國光刻膠生產主要集中在PCB光刻膠等中低端產品，其中PCB光刻膠占比達94%；而半導體用g/i線膠自給率約 10%，KrF膠自給率不足5%，ArF膠基本依靠進口。在政策推動及半導體產業鏈配套需求提升背景下，國內優秀龍頭公司正積極突破，彤程新材 EUV膠已通過02專項驗收；上海新陽、徐州博康ArF膠正處客戶測試階段，南大光電ArF膠已獲部分客戶認證；晶瑞電材等i/g線膠已實現量產。隨著國內廠商在高端光刻膠領域的逐步突破，國產替代進程有望加速。