不同設備中不同種類零部件成本的占比有何差異？

由于不同設備技術特點差異較大，因此不同設備中不同種類零部件成本的占比差異較大。

機械類零部件應用最為廣泛，在設備成本中占比最高。由于各種腔體、接頭、泵等機械類零部件起到關鍵的支 撐、傳輸、控制等作用，因此在濕法與干法設備中應用最為廣泛，根據拓荊科技/華海清科/屹唐/盛美上海的零 部件采購比例，機械類零部件在采購成本中占比均為 30%+；

電氣類零部件必不可少，在等離子體設備中應用比例大大提高。電氣類零部件包括射頻電源、射頻匹配器等， 由于設備幾乎均需要通電使用，因此電氣類零部件也必不可少。在等離子體相關的設備，如 PECVD、等離子體 刻蝕機中，需要在電感線圈上施加高頻信號，進而在電感線圈內部感應出電場，加速等離子體中的電子至更高 的能量，因此電氣類作用更為關鍵，例如拓荊科技電氣類采購比例為 27%，遠高于華海清科、盛美上海等其他 非等離子體設備廠商；

氣體/液體元件在濕法設備中占比更高。常見的氣體元件包括氣柜、氣體管路等，用于各種需要通氣的設備中； 液路元件包括閥門、流量控制器等，用于控制液體的流量等。例如，盛美上海采用兆聲波清洗技術，工作原理 是通過兆聲波在傳輸的液體介質中產生周期性的壓縮或拉伸，液體會被拉開形成一個空穴，液體中溶解的氣體 向空穴中擴散，進而產生顯著的清洗效果；華海清科 CMP 設備也是濕法設備的一種，工作原理是晶圓表面材料 與研磨液發生化學反應，在拋光頭的作用下進行拋光，關鍵在于研磨液和拋光頭的選擇。因此華海清科和盛美 的氣體/液路元件占比遠高于拓荊科技、屹唐股份等以干法設備為主的廠商；

真空系統用于含真空腔的設備中。部分設備如 PECVD，在應用場景中需要保持真空狀態，因此會配備真空腔， 拓荊科技 21Q1-Q3 真空系統占比大約 7%，而由于華海清科 CMP 設備不配備真空腔，因此不需要真空系統相 關零部件；

輸送系統：用于晶圓、氣體輸送等，干法/濕法設備均廣泛應用。常見的輸送系統零部件包括機械手等，雖然不 參與晶圓相關的反應，但由于對晶圓生產效率產生重要影響，因此廣泛應用；

光學零部件：包括透鏡等，主要用于光刻、量測設備等特定場景，在其他干法/濕法設備中使用較少。