茂萊光學戰略核心及業務主線分析

依托技術積淀發揮乘數效應，擁抱多元場景。

1、定制化能力是公司戰略核心，技術積淀深厚

公司采用“多品種、小批量、定制化”的經營模式，賦能客戶從前期開發到后期迭代 的全過程，客戶黏性高。依據公司招股書，2021 年，公司在全球生命科學/半導體/ARVR 領域工業級精密光學市場的市占率分別為 3.8%/3.0%/3.0%。 公司定制化能力突出的本質是其深厚的光學設計及加工能力，即能夠依據客戶給出的 產品參數限制快速完成精密加工，鍍膜技術和拋光技術是精密光學的兩大核心。

一、鍍膜技術：鍍膜以蒸發沉積、磁控濺射等方式將氧化物或金屬等材料均勻覆蓋在 光學元件表層，令光學元件具備增透、抗干擾等特定功能。鍍膜技術的演進是光學元件性 能提升以及場景拓展的起點，是令光學走向精密化的技術核心。AR 增透膜是光學元件中最基礎、最通用的鍍膜技術。增透膜利用了光的干涉原理， 通過控制薄膜的厚度和折射率來實現光線的增透，在光路傳輸中起到至關重要的基礎性功 用。出于準直、放大等光線處理要求，多次傳輸是精密光學系統光路的普遍特性，因此低 透光率的缺陷會在光路中被一層層放大，成倍影響最終的光效。 增透膜的技術難度主要體現在：對膜材的特定折射率要求和現實中膜材固有物理特性 并不完全匹配。增透膜對薄膜厚度和折射率的要求被特定的物理公式限定，但現實的薄膜 材料折射率由自身屬性固定，二者只能近似，無法完全匹配。

理論上，最理想的透過率要求膜材的折射率等于空氣折射率和元件折射率乘積的算數 平方根。舉例來看，一般空氣折射率在 1.0 左右，玻璃折射率在 1.5-1.7 左右，對應折算出 理想膜材的折射率在 1.224/1.304 左右，但實際中并沒有精準貼合理論要求的鍍膜材料，這 就要求光學企業通過合理的材料選擇（同時還需考慮材料成本、機械穩定性等因素）、多層 膜制備等技術手段來無限接近 100%透過率的理想目標。

公司可實現覆蓋紫外、可見、紅外波段的鍍膜設計和制造，具有增透（AR）、高反 （HR）、分光（Beam splitter）、濾光（Filter）等各類產品的鍍膜能力。公司擁有一臺直徑 1.9m 的超大型鍍膜機，同時引進德國萊寶高端鍍膜機，形成高端生物濾光片的設計和開發 能力。二、拋光技術：通過拋光工藝，可以改善光學元件表面的面形精度、表面粗糙度以及 表面光潔度。半導體設備對于光學零部件表面精度和光潔度有極高要求，而公司通過高面 形超光滑拋光技術，可令光學元件表面粗糙度達到 Ra＜0.3nm，表面面形優于 PV25nm， 表面光潔度可達到 10/5 等級，能夠滿足 DUV 和 EUV 短波長激光應用場景和激光干涉 測量等應用領域。

2、從技術積淀期步入紅利釋放期，三大業務主線逐步清晰

公司技術積累已經逐步到位，依托底層通用光學技術，公司逐步走入紅利釋放周期。 公司生命科學、半導體、AR/VR 三大業務條線逐步清晰，客戶群體不斷擴張。 在生命科學方面，公司客戶包括 ALIGN、華大智造、Bio-Rad、Thermo Fisher 等，其 中，公司為華大智造提供的基因測序光機電模組由公司自主研制，在最大限度提升顯微成 像寬闊度的同時，成像效果更為清晰且自動對焦速度快（小于 100ms），能快速啟動相機并 鎖定分析對象。隨著基因測序儀產業鏈朝本土化演進，以及基因測序成本下降推動需求提 升，公司生命科學相關業務有望繼續維持高增。

在半導體業務方面，公司產品可用于半導體 AOI 檢測、光刻機等多個場景，客戶涵蓋 上海微電子、KLA、Camtek 等海內外龍頭。 公司掌握光刻機曝光物鏡超精密光學元件加工技術，基于該技術生產的光刻機曝光物 鏡用光學器件最大口徑可達直徑 300mm，其面形精度可以實現 PV 小于 30nm，表面光潔 度可達到 20/10，AR 膜性能均勻且能滿足強激光照射需求，應用在 365nm 的 I 線光刻 機的曝光物鏡中，可實現亞微米量級的曝光線寬，實現光刻機核心元件的國產化批量生 產，助力光刻機零部件率先完成國產替代。 隨公司募投項目實施逐步到位，公司有望伴隨三大主業的行業景氣一同成長，實現體 量的穩步擴張。