光刻膠產(chǎn)業(yè)研究：核心半導(dǎo)體材料，步入國產(chǎn)替代機(jī)遇期.pdf
- 上傳者：潘*
- 時(shí)間：2021/09/03
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◆光刻膠:亟待國產(chǎn)化的半導(dǎo)體核心材料。光刻膠是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體，其利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的徽細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上，是用于徼細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵電子化學(xué)品。伴隨半導(dǎo)體等下游產(chǎn)業(yè)持續(xù)發(fā)展，光刻膠市場正穩(wěn)定成長，根據(jù) Cision預(yù)測，2022年全球光刻膠市場規(guī)模有望達(dá)到105億美元，年均復(fù)合增速5％。光刻膠產(chǎn)業(yè)最早由歐美主導(dǎo)，日本廠商后來居上，目前仍保持壟斷地位。全球主要光刻膠企業(yè)有日本JSR、東京應(yīng)化、信越化學(xué)，美國陶氏化學(xué)、韓國東進(jìn)世美等。中國光刻膠產(chǎn)業(yè)規(guī)模仍較小，但已有眾多廠商積極布局，主要包括畾瑞電材、北京科華、徐州博康、上海新陽等。光刻膠核心壁壘包括原材料壁壘、配方壁壘、設(shè)備壁壘和認(rèn)證壁壘。當(dāng)前，在技術(shù)積累、行業(yè)高景氣度、國內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)、以及信越斷供等因素影響下，國產(chǎn)光刻膠正處于替代窗口期，行業(yè)壁壘有望逐步被打開
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