普達特科技公司深度報告：國產(chǎn)半導體設備遺珠，半導體清洗設備+LPCVD設備雙輪驅動.pdf

普達特科技公司深度報告：國產(chǎn)半導體設備遺珠，半導體清洗設備+LPCVD設備雙輪驅動。

從能源跨界到半導體設備

普達特科技正從一家傳統(tǒng)能源與投資公司，蛻變?yōu)樵诎雽w 濕法清洗設備領域實現(xiàn)高端工藝國產(chǎn)突破的硬科技制造商。 公司核心業(yè)務正站在國產(chǎn)晶圓廠擴產(chǎn)與半導體設備國產(chǎn)化替 代兩條歷史性趨勢的交匯點。

擴產(chǎn)周期疊加國產(chǎn)替代，雙重機遇開啟黃金發(fā)展 期

需求端來看，以中芯國際、華虹半導體為代表的 Fab 廠和以 長江存儲、長鑫存儲為代表的存儲廠商正處于擴產(chǎn)周期，疊 加先進制程工藝步驟激增，直接拉動清洗設備的需求數(shù)量與 價值量同步攀升。供給端而言，全球清洗設備市場長期被日 本 DNS、東京電子、泛林等海外巨頭壟斷，高溫 SPM 等高端 領域國產(chǎn)化率幾乎為零；但在復雜的國際環(huán)境下，供應鏈自 主可控已成為國家戰(zhàn)略與芯片廠商的剛性需求，國產(chǎn)設備廠 商正迎來前所未有的驗證導入窗口期。中國作為全球最大的 半導體設備市場，僅清洗設備細分領域規(guī)模已超百億元且持 續(xù)增長，為具備技術實力的國產(chǎn)廠商提供了廣闊的成長舞 臺。

高端工藝國產(chǎn)突破，濕法全矩陣與 LPCVD 雙輪成 長

公司成功攻克被國際巨頭長期壟斷的高溫硫酸清洗（HT SPM）工藝，高溫硫酸清洗工藝是 28nm 及以下先進制程與 3D NAND 制造的核心必備環(huán)節(jié)，其 OCTOPUS-HTSPM 設備已通過客 戶嚴格的馬拉松測試，性能指標達到國際主流水平并實現(xiàn)首 臺交付，標志著公司在高端清洗設備"卡脖子"環(huán)節(jié)取得關鍵 突破。清洗設備產(chǎn)品布局方面，公司形成三大平臺立體化布 局的產(chǎn)品矩陣：CUBE 平臺以領先的工藝能力與高生產(chǎn)力滿足 功率器件及 SiC 市場多樣化需求并獲得重復訂單；核心旗艦 OCTOPUS 平臺標配 16 腔室，最大吞吐量較同類產(chǎn)品提升 23%以 上，已成功導入國內(nèi)頭部晶圓廠 28nm 產(chǎn)線；PARALLELLO 槽式 清洗機進一步完善了具備先進表面污染控制能力的批次式產(chǎn) 品線。此外，公司通過控股子公司芯愷半導體戰(zhàn)略布局低壓 化學氣相沉積（LPCVD）爐管設備，該類設備主要由日本 TEL、KE 公司壟斷，國產(chǎn)化率極低，目前公司 LP-SiN 樣機已完成客戶驗收，ALD-SiN 樣機也已交付客戶測試，技術參數(shù)對 標國際主流。LPCVD 爐管設備有望成為公司半導體設備業(yè)務的 第二增長極，助力公司實現(xiàn)向多產(chǎn)品線高端國產(chǎn)半導體設備 商的戰(zhàn)略躍遷。