昊華科技在電子化學(xué)品領(lǐng)域是如何布局的？

想要了解相關(guān)問題，可以下載報告《昊華科技（600378）研究報告：科研院所底蘊深厚，高端布局盈利加速》查看，以下內(nèi)容都是根據(jù)該報告總結(jié)的，僅供參考。

含氟電子特氣：產(chǎn)學(xué)研一體的含氟氣體供應(yīng)商

半導(dǎo)體國產(chǎn)替代拉動電子特氣行業(yè)擴容。電子特氣，即電子特種氣體，是應(yīng)用 于電子工業(yè)生產(chǎn)中的特種氣體，是超大規(guī)模集成電路、平板顯示器件、太陽能電池、 光纖等電子工業(yè)生產(chǎn)不可或缺的原材料，它們主要應(yīng)用于薄膜、刻蝕、摻雜、氣相 沉積、擴散等工藝，幾乎貫穿了整個半導(dǎo)體行業(yè)的生產(chǎn)過程，其質(zhì)量直接影響電子 半導(dǎo)體器件的性能優(yōu)劣。電子特氣占據(jù)晶圓制造成本的 13.50%，為晶圓制造過程中 僅次于硅片的第二大材料。

隨著國內(nèi)半導(dǎo)體生產(chǎn)企業(yè)技術(shù)不斷取得突破，我國半導(dǎo)體國產(chǎn)替代進程開始逐 步加快，已經(jīng)成為全球最大的半導(dǎo)體市場，根據(jù) WSTS 統(tǒng)計，2021 年全球半導(dǎo)體 銷售達到 5559 億美元，同比增長 26.2%。其中中國銷售額總額為 1925 億美元，同 比增長 27.1%。國家相繼發(fā)布《新材料產(chǎn)業(yè)指南》、《“十四五”和 2035 年遠景目標(biāo)綱 要》，旨在推動包括電子特氣在內(nèi)的關(guān)鍵材料國產(chǎn)化。據(jù)商業(yè)和技術(shù)資訊電子材料咨 詢機構(gòu)《TECHCET》報告顯示，2021 年全球電子特氣市場營收達 63 億美元，預(yù) 計 2022 年將再成長 8%，到 2026 年年復(fù)合成長率高達 9%。增長的主要原因歸功 于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對于電子特氣的需求。

電子特氣市場被國際巨頭壟斷，國內(nèi)廠家待突破。從市場份額來看，全球電子 特氣市場 90%以上的份額由美國空氣化工、德國林德集團（已于 2018 年與美國普 萊克斯完成對等合并）、法國液化空氣集團、日本大陽日酸株式會社等四大氣體公司 控制，形成了寡頭壟斷的格局。而國內(nèi)市場也出現(xiàn)大致相似的分布——幾個跨國巨 頭主導(dǎo)了國內(nèi)份額的 88%，國內(nèi)廠商僅占 12%，半導(dǎo)體領(lǐng)域電子特氣國產(chǎn)化率不足 15%。從品種數(shù)量來看，根據(jù)中國工業(yè)氣體工業(yè)協(xié)會統(tǒng)計，目前集成電路生產(chǎn)用的 特種氣體，我國僅能生產(chǎn)約 20%的品種，其余均依賴進口。目前我國國內(nèi)企業(yè)所能 批量生產(chǎn)的特種氣體仍主要集中在集成電路的清洗、蝕刻、光刻等工藝環(huán)節(jié)，對摻 雜、沉積等工藝的特種氣體僅有少部分品種取得突破。

出現(xiàn)這樣的情況，有多種因素導(dǎo)致。第一，早期半導(dǎo)體廠商均是外資獨資或合 資，技術(shù)和裝備從國外直接引進，對國內(nèi)的材料配套企業(yè)不具備帶動作用，同時國 內(nèi)氣體產(chǎn)品進入外資半導(dǎo)體廠商渠道困難，這導(dǎo)致我國電子氣體產(chǎn)業(yè)發(fā)展較為落后， 導(dǎo)致研發(fā)技術(shù)和配套上與國際巨頭相比有明顯的代差。在芯片制造中，氣體純度通 常要求在 ppt 級別以上，電子氣體雜質(zhì)高將會嚴(yán)重影響芯片的良率，因此先進制程 對于電子特氣雜質(zhì)的控制及質(zhì)量穩(wěn)定性提出了嚴(yán)苛的要求，在技術(shù)層面我國還需要 加速追趕。同時，工業(yè)氣體品種繁多，不同種類工業(yè)氣體的生產(chǎn)工藝各不相同，且 對其充裝、配送等方面均提出了較高的技術(shù)要求；二是因為渠道壁壘，氣體行業(yè)的 銷售網(wǎng)絡(luò)鋪設(shè)周期一般較長、難度較大，一旦在區(qū)域內(nèi)確立競爭優(yōu)勢，會形成較高 的競爭門檻，因此海外巨頭提前占據(jù)市場形成優(yōu)勢。三是資金壁壘，電子氣體行業(yè) 投資大，產(chǎn)品認證周期很長，資本回報相對較慢，這也成為阻礙行業(yè)新進入者的門 檻，而已有規(guī)模化企業(yè)可以憑借已有的產(chǎn)品產(chǎn)生的現(xiàn)金流孵化培育新品，承擔(dān)前期 測試和認證成本。總體而言，研發(fā)平臺、下游廠商渠道和現(xiàn)金流是極為關(guān)鍵的幾大 因素。隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)能轉(zhuǎn)移向中國，集成電路產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化進程加速，電子氣 體市場需求不斷增加。

含氟特氣占特氣比例超過 30%，應(yīng)用領(lǐng)域廣闊。電子特氣主要品種多達上百種， 被廣泛應(yīng)用于芯片制造的各個工藝流程中。根據(jù)《幾種含氟電子氣體發(fā)展的思考》， 在眾多品類的電子特氣中，含氟電子特氣約占總需求的 30%左右。氟原子有極強的 反應(yīng)活性和較大的電負性，因此可以生產(chǎn)各種有特殊性能的含氟化合物，用作清洗 劑、蝕刻劑、摻雜劑、成膜材料等。主要的含氟電子氣體包括三氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)、六氟化鎢(WF6)、六氟乙烷(C2F6)等。

昊華科技含氟電子特氣產(chǎn)品系列齊全，產(chǎn)能位列國內(nèi)前三，已進入一線廠商。 昊華科技具有長期從事特種氣體的研發(fā)、設(shè)計和生產(chǎn)的良好基礎(chǔ)，旗下有黎明院、 光明院（已成立昊華氣體有限公司），形成了具有自主知識產(chǎn)權(quán)的特種氣體制備綜合 技術(shù)，產(chǎn)品主要為含氟電子氣（包括三氟化氮、六氟化硫、四氟化碳、六氟化鎢等）、 綠色四氧化二碳、高純硒化氫、高純硫化氫等。公司電子特氣廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集 成電路、電力設(shè)備制造、LED、光纖光纜、太陽能光伏、醫(yī)療健康、環(huán)保監(jiān)測等領(lǐng) 域。目前擁有產(chǎn)能 4000 噸/年，2020 年 3 月規(guī)劃采用黎明院自主研發(fā)專利技術(shù)新增 4600 噸/年特種含氟電子氣體項目，其中包括 3000 噸/年三氟化氮、1000 噸/年四氟 化碳及 600 噸/年六氟化鎢生產(chǎn)線，項目將于今年底全面建成投產(chǎn)。

三氟化氮是市場容量最大的電子特氣產(chǎn)品，需求加速將面臨短缺。三氟化氮的 反應(yīng)性與氟相似，具有在等離子條件下釋放氟氣的能力，常溫下具有化學(xué)惰性，而 在高溫下可作氧化劑，性質(zhì)比氧氣更具活性但比氟要穩(wěn)定得多，且易于處理，是電 子工業(yè)中優(yōu)良的等離子蝕刻氣體和反應(yīng)腔清洗劑，廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體芯片、平 板顯示器、光伏電池（非晶硅薄膜電池）等領(lǐng)域。作為清洗氣，三氟化氮的清洗效 果優(yōu)良，完全分解的溫度較低（700~900℃），無害化處理成本低于其它清洗氣體， 通常 200、300mm 及更大的化學(xué)氣相沉積（CVD）設(shè)備大都采用三氟化氮為主要的 清洗氣體。作為等離子蝕刻氣體，其比 CF4 和 CF4 氧氣的混合氣體有更高的蝕刻 速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于 1.5μm 的集成電路材料的蝕 刻中，NF3 具有非常優(yōu)良的蝕刻速率和選擇性。根據(jù) TECHCET 報告，三氟化氮可 能在未來幾年可能將出現(xiàn)供應(yīng)壓力，因為預(yù)計需求將超過供給量。需求的增加主要 來自 CVD/ALD 沉積技術(shù)過程需要添加多圖形化和 EUV 微影曝光，使清潔需求增加， 帶動常用于真空腔室清潔用的三氟化氮快速增長。

近年國內(nèi)三氟化氮產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速，自給率快速提升。根據(jù)智研咨詢發(fā)布的 《2022-2028 年中國三氟化氮行業(yè)市場運行格局及發(fā)展策略分析報告》，2015 年我 國三氟化氮產(chǎn)量在 2887.3 噸左右，2021 年產(chǎn)量增長至 15317.1 噸，2015-2021 年 實現(xiàn)年均復(fù)合增速 32.06%，近年來自給率上升明顯。2019 年我國三氟化氮產(chǎn)品出口數(shù)量首次超過進口，到 2021 年出口量達到 1999 噸。由此測算 2021 年三氟化氮 行業(yè)需求量 1.43 萬噸，預(yù)計 2025 年需求將達到 2.5 萬噸。

國外 NF3 主要生產(chǎn)商有美國 AP、BOC Edwards、杜邦(收購原 ASG 的業(yè)務(wù))、 日本的關(guān)東電化公司(KDK)、中央旭硝子公司 Central Glass(中央玻璃)、三井化學(xué) Mitsui 公司以及韓國索地福公司等。在國內(nèi)，中船重工 718 所、南大光電、昊華科 技、SK 鎮(zhèn)江是三氟化氮主要生產(chǎn)廠家，718 所產(chǎn)能第一，達到 9500 噸/年，昊華科 技是國內(nèi)具備高純度三氟化氮研制能力的領(lǐng)先企業(yè)，2015 年，黎明院和韓國大成株 式會社合資的年產(chǎn) 1000 噸/年電子級三氟化氮項目建成投產(chǎn)，2018 年完成擴能改造， 該裝置總產(chǎn)能達到 2000 噸/年。2021 年 9 月，昊華收購大成持有的合資公司 40% 股權(quán)，對黎明大成達到 100%控股。根據(jù)公司年報披露的產(chǎn)量數(shù)據(jù)，2017-2021 年 公司的產(chǎn)量份額保持在 16-22%左右。后續(xù)公司將擴產(chǎn) 3000 噸/年三氟化氮，總產(chǎn)能 達到 5000 噸/年。公司憑借技術(shù)優(yōu)勢及成熟的銷售渠道，已與京東方等下游領(lǐng)先企 業(yè)建立了穩(wěn)固合作關(guān)系。

六氟化硫（SF6）是較優(yōu)異的電子刻蝕劑和清洗劑。六氟化硫是很強的氧化劑 和氟化劑，但表現(xiàn)出比氮氣還高的惰性。同時六氟化硫具有極好的熱穩(wěn)定性，即使 在 500℃以上高溫也不分解。其也是重要的氣態(tài)絕緣介質(zhì)，具有卓越的電絕緣性和 滅弧特性。通常六氟化硫在平板顯示領(lǐng)域可作為清洗劑，用于去除玻璃基板上的沉 積層（包括半導(dǎo)體層和氮化硅層）和清洗蝕刻工藝之后的反應(yīng)腔。由于六氟化硫在 鎢的回刻方面有獨特的優(yōu)勢，因此在集成電路中占有一定份額。高純度 SF6 主要用 于半導(dǎo)體清洗，SF6 的成本只有 NF3 的幾分之一。昊華旗下的黎明院是國內(nèi)最早從 事六氟化硫研發(fā)的企業(yè)，從 2001 年開始進行系列特種含氟電子氣體的研究，亦是國 內(nèi)僅有的高純度六氟化硫研制企業(yè)，在電解制氟和電化學(xué)氟化領(lǐng)域有較強的技術(shù)優(yōu) 勢。目前公司六氟化硫產(chǎn)能 2000 噸/年，位于全國第二，僅次于科美特（雅克科技）。 其中，公司電子級的六氟化硫產(chǎn)能 1000 噸/年，電子級市占率 65%以上。

2 濕電子化學(xué)品

濕電子化學(xué)品種類繁多，受益下游半導(dǎo)體、新型顯示和光伏行業(yè)快速發(fā)展。濕 電子化學(xué)品又稱超凈高純試劑或工藝化學(xué)品，為微電子、光電子濕法工藝制程中使 用的各種電子化工材料的總稱。濕電子化學(xué)品品類繁多，按照組成成分和應(yīng)用工藝 可分為通用濕電子化學(xué)品（包括，酸類：過氧化氫、氫氟酸、硫酸等；堿性：氫氧 化銨、氫氧化鉀、氟化銨等；溶劑類：甲醇、乙醇、丙酮等。）和功能濕電子化學(xué)品 （主要包括顯影液、剝離液、清洗液、刻蝕液稀釋液等）。濕電子化學(xué)品主要用于半 導(dǎo)體、顯示面板、太陽能電池三大行業(yè)。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，其主要應(yīng)用于晶圓制造和 后端封裝測試領(lǐng)域，主要用途為清洗、顯影、蝕刻、剝離。平板顯示領(lǐng)域，濕電子 化學(xué)品主要用于薄膜制程清洗、光刻、顯影、蝕刻等工藝環(huán)節(jié)。我國自 2018 年后加 大了對半導(dǎo)體、顯示面板上游材料的扶持力度，國內(nèi)外晶圓廠大規(guī)模擴產(chǎn)，帶動上 游半導(dǎo)體材料的需求持續(xù)增長，也促進了國產(chǎn)濕電子化學(xué)品的發(fā)展。在太陽能電池 領(lǐng)域，濕電子化學(xué)被應(yīng)用于太陽能電池片的制絨、清洗和蝕刻。需求也在太陽能電 池企業(yè)產(chǎn)量增長的帶動下增長。根據(jù)中國電子材料行業(yè)協(xié)會數(shù)據(jù)顯示，2021 年，全 球使用濕電子化學(xué)品的總量達到 458.3 萬噸，其中集成電路領(lǐng)域用濕電子化學(xué)品需 求量 209 萬噸，占比 45.6%；新型顯示領(lǐng)域用濕電子化學(xué)品需求量達到 167.2 萬噸， 占比 36.5%；光伏領(lǐng)域用量較少，需求占比不足 20%。預(yù)計到 2025 年濕電子化學(xué) 品總需求達到接近 700 萬噸，其中集成電路領(lǐng)域用濕電子化學(xué)品需求量 313 萬噸； 新型顯示領(lǐng)域用濕電子化學(xué)品需求量達到 244 萬噸。我國 2021 年濕電子化學(xué)品需 求 213.52 萬噸，2025 年市場需求達到 369.56 萬噸。

面板領(lǐng)域濕電子化學(xué)品國產(chǎn)化率快速上升，半導(dǎo)體領(lǐng)域仍需突破。濕電子化學(xué) 品市場格局方面，歐美巨頭市場份額約為 31%，日本企業(yè)市場份額約為 29%，韓國、 中國大陸及中國臺灣的市場份額約為 39%，其他國際及地區(qū)市場份額約為 1%。近 年來，中韓企業(yè)在高世代液晶面板及 OLED 面板等新型顯示領(lǐng)域市占率有所提升，半導(dǎo)體的大尺寸晶圓進步同樣飛速，單小尺寸方面受制于產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展限制而較為薄 弱。中國電子材料行業(yè)協(xié)會數(shù)顯示，我國集成電路用濕電子化學(xué)品整體國產(chǎn)化率 35%， 12 英寸晶圓 28nm 以下先進節(jié)點制造所用的功能性濕電子化學(xué)品基本依賴進口。顯 示面板用濕電子化學(xué)品國產(chǎn)化率不足 40%，高世代顯示面板用銅蝕刻液國內(nèi)企業(yè)實 現(xiàn)了小批量供應(yīng)，OLED 面板用銀蝕刻液仍全部依賴進口。國產(chǎn)化替代還大有可為。

昊華科技擬適時開展?jié)耠娮踊瘜W(xué)品業(yè)務(wù)，豐富產(chǎn)品矩陣。2022 年 6 月，昊華發(fā) 布“十四五規(guī)劃”，提出適時開展?jié)耠娮踊瘜W(xué)品等領(lǐng)域的業(yè)務(wù)，培育以電子特氣為優(yōu)勢 并不斷拓展產(chǎn)品組合的電子化學(xué)品產(chǎn)業(yè)鏈，成為國內(nèi)領(lǐng)先、全球知名的電子化學(xué)品 供應(yīng)商。昊華黎明院在過氧化氫生產(chǎn)和提純技術(shù)上有所積累，是國內(nèi)蒽醌法制過氧 化氫固定床技術(shù)的創(chuàng)始企業(yè)，綜合技術(shù)處于國際先進水平。近年來黎明院瞄準(zhǔn)己內(nèi) 酰胺和環(huán)氧丙烷行業(yè)對過氧化氫技術(shù)大型化、高效化、綠色化的需求，自主研發(fā)出 的新型高效鈀催化劑及配套工作液體系，并在開發(fā)完善擴大年產(chǎn)至 50 萬噸級，成 功占據(jù)我國過氧化氫技術(shù)轉(zhuǎn)讓市場大部分份額，助推我國過氧化氫產(chǎn)品產(chǎn)量居世界 首位。黎明院電子級過氧化氫正處于實驗研發(fā)階段，公司也將進一步布局其他種類 的濕電子化學(xué)品。由于昊華在特種氣體領(lǐng)域有多年的技術(shù)經(jīng)驗和渠道優(yōu)勢，延伸濕 電子化學(xué)品有望復(fù)制研發(fā)經(jīng)驗，并共享客戶渠道優(yōu)勢。